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化學真空系統(tǒng) PC 611 select常用于含高沸點溶劑的真空應(yīng)用。該泵能夠同時搭配兩個獨立的真空應(yīng)用使用。一個應(yīng)用由配備直通電磁閥的VACUU·SELECT真空控制器進行控制,另一個應(yīng)用由手動流量調(diào)節(jié)閥進行抽速控制。兩個真空端口都內(nèi)置單向止回閥,能夠防止交叉污染互相影響。
化學真空系統(tǒng) PC 610 select描述 對于需要進行電子控制蒸發(fā)或干燥(包含許多高沸點溶劑)過程的應(yīng)用,我們的PC 600系列化學真空系統(tǒng)是一個很好的選擇。備受歡迎的MD 4C NT三級化學隔膜泵,其極限真空度為2mbar,是這些真空系統(tǒng)的核心組件。典型的應(yīng)用包括實驗室常見應(yīng)用,如旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)、真空干燥和真空蒸餾。
普蘭德化學真空系統(tǒng) PC 201 NT廣泛應(yīng)用于化學、生物和制藥實驗室的排氣、蒸發(fā)或者氣體抽取等過程。主要用于和旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、真空濃縮儀或真空干燥箱等連用,非常適用于高沸點溶劑。手動流量控制閥可以調(diào)節(jié)真空接口的有效抽速,指針式的真空壓力計可顯示真空值。
化學真空系統(tǒng) MD 12C NT +EK有非常廣泛地用途,如排氣、蒸發(fā)及氣體或蒸汽的抽空。其既有非常大的抽速,又非常適應(yīng)高真空需求,如用于高沸點溶劑。MD 12C NT基礎(chǔ)泵配有一個氣鎮(zhèn)閥,在開啟時仍有很好的極限真空,緊湊的設(shè)計下仍有好的性能。一貫的佳的耐化學腐蝕性,使其在化學及制藥領(lǐng)域幾乎通用。
化學真空系統(tǒng) MD 12C NT +AK+EK非常廣泛地用途,如排氣、蒸發(fā)及氣體或蒸汽的抽空。其既有非常大的抽速,又非常適應(yīng)高真空需求,如用于高沸點溶劑。MD 12C NT 基礎(chǔ)泵配有一個氣鎮(zhèn)閥,在開啟時仍有很好的極限真空,緊湊的設(shè)計下仍有性能。
化學真空系統(tǒng) MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK使用一個真空泵即可同時實現(xiàn)兩種過程控制。可與旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、真空濃縮儀和真空烘箱等配合使用。每個真空連接口配備一個手動控制閥來調(diào)節(jié)進氣口的有效流量。
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